?2023年1月30日，由業(yè)界知名媒體光電匯舉辦的2022中國十大光學(xué)產(chǎn)業(yè)技術(shù)評選最終獎項(xiàng)揭曉，炬光科技DLight?S系列半導(dǎo)體集成電路晶圓退火系統(tǒng)榮膺光學(xué)類技術(shù)獎項(xiàng)。

2023年2月24日，炬光科技受邀出席光電匯“中國十大光學(xué)產(chǎn)業(yè)技術(shù)頒獎典禮及報告會”。在本次報告會中，炬光科技泛半導(dǎo)體制程事業(yè)部副總經(jīng)理顧維一將發(fā)表題為《DLight?S系列半導(dǎo)體集成電路晶圓退火系統(tǒng)項(xiàng)目概述》的報告。歡迎掃描文章底部海報二維碼，免費(fèi)注冊觀看！

報告摘要

此次報告將分享半導(dǎo)體集成電路晶圓激光退火的研究背景、應(yīng)用背景以及國內(nèi)外技術(shù)發(fā)展水平。隨著半導(dǎo)體制造技術(shù)的不斷發(fā)展和超大規(guī)模集成電路設(shè)計(jì)制造能力的不斷提升，激光退火技術(shù)逐漸取代傳統(tǒng)爐管退火技術(shù)，成為28nm及以下邏輯芯片制造前道工序中不可缺少的關(guān)鍵工藝之一。激光退火相對于傳統(tǒng)退火，具有選區(qū)加熱、閉環(huán)精準(zhǔn)控溫、高能量密度、連續(xù)能量輸出穩(wěn)定等特點(diǎn)，能夠滿足多種退火工藝需求。

獲獎產(chǎn)品

炬光科技DLight?S系列半導(dǎo)體集成電路晶圓退火系統(tǒng)結(jié)合了產(chǎn)生光子的共晶鍵合技術(shù)、激光光源熱管理技術(shù)、熱應(yīng)力控制技術(shù)以及調(diào)控光子的激光光束轉(zhuǎn)換技術(shù)和光場勻化技術(shù)，可生成一條線寬70μm，長寬比達(dá)160:1的近紅外波段極窄線光斑，提供高達(dá)1800W/mm²的連續(xù)能量輸出，在不到1毫秒的時間內(nèi)將晶圓表層原子層加熱到1000°C以上再急速冷卻，從而有效減少前道工序中產(chǎn)生的晶圓電極缺陷，提高產(chǎn)品性能，提升晶圓生產(chǎn)良品率。在光斑長度方向上，該專項(xiàng)技術(shù)可達(dá)到＞95%的光斑均勻性和＞98%的連續(xù)輸出能量穩(wěn)定性，同時還具備工藝點(diǎn)溫度監(jiān)測，輸出光束質(zhì)量在線檢測等附加功能。其產(chǎn)品核心技術(shù)以及獨(dú)創(chuàng)性已獲得業(yè)界的廣泛認(rèn)可。

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報告人信息

報告人：顧維一，炬光科技泛半導(dǎo)體制程事業(yè)部副總經(jīng)理。畢業(yè)于西安工業(yè)大學(xué)電信學(xué)院，工學(xué)碩士學(xué)位，在激光應(yīng)用領(lǐng)域有超過十年的從業(yè)經(jīng)驗(yàn)，專注于高功率半導(dǎo)體激光系統(tǒng)在先進(jìn)制造和泛半導(dǎo)體領(lǐng)域的產(chǎn)品和應(yīng)用開發(fā)，先后主導(dǎo)了炬光科技DLight H、DLight S及Flux H系列高功率半導(dǎo)體激光系統(tǒng)的產(chǎn)品開發(fā)。

會議介紹

本次報告將于2月24日（周五）14:10-14:30在線直播，歡迎掃描二維碼免費(fèi)注冊報名，我們期待與您在直播間交流探討！